原子沉積系統是一款緊湊型獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶(hù)授權保護功能。系統為全自動(dòng)的安全互鎖設計，并提供了強大的靈活性，
 

　　原子沉積系統的操作步驟：
 

　　1、開(kāi)機：開(kāi)普氮(壓力0.4-0.6MPa)、高純氮氣瓶(壓力小于0.1MPa)；開(kāi)總電源；開(kāi)水冷機。
 

　　2、放樣品：點(diǎn)擊“進(jìn)氣”，待壓強升至1個(gè)大氣壓后，打開(kāi)腔體，放入樣品。點(diǎn)擊“設置”，將流量重新設置為：20。
 

　　3、開(kāi)機械泵：先打開(kāi)機械泵電源開(kāi)關(guān)，然后點(diǎn)擊“泵閥開(kāi)”。4、設置溫度參數：點(diǎn)擊“設置”，開(kāi)始設置溫度參數，例如1：200度；2：230度；11(水)：50度，或者11(臭氧)：0度；10(Al源)：0度。循環(huán)次數根據需要設置。流量：20。點(diǎn)擊“確定”，開(kāi)始加熱，加熱時(shí)間不少于45min。
 

　　5、排水：加熱45min后，若之前用過(guò)水，而本次實(shí)驗用臭氧，則需排水。點(diǎn)擊“模式1”，將前驅體4的脈沖時(shí)間設為：1000ms，清洗時(shí)間設為：5s，關(guān)閉小窗，點(diǎn)擊“開(kāi)始”，n個(gè)循環(huán)后，點(diǎn)擊“結束”，排水完成。
 

　　6、設置沉積模式參數：點(diǎn)擊“模式1”或者“模式2”，設置前驅體和水(或者臭氧)的脈沖時(shí)間和清洗時(shí)間。以沉積氧化鋁為例，前驅體3為鋁源，前驅體4為水(或者臭氧)，其他為空置，設置前驅體3的脈沖時(shí)間為：60ms，清洗時(shí)間設為：10s；設置前驅體4的脈沖時(shí)間為：50ms，清洗時(shí)間設為：30s。
 

　　7、設置載氣流量和循環(huán)次數：點(diǎn)擊“設置”，流量設置為：20；循環(huán)次數根據所需樣品厚度而定。
 

　　8、開(kāi)始實(shí)驗：打開(kāi)相應前驅體的手動(dòng)閥，如果使用臭氧作為反應源，氣壓，開(kāi)腔體，取出樣品。
 

　　10、抽真空：點(diǎn)擊“泵閥開(kāi)”，氣壓下降后，點(diǎn)擊“進(jìn)氣”，關(guān)閉高純氮的減壓閥，流量下降至1位數時(shí)，點(diǎn)“設置”，將將流量重新設置為：0。
 

　　(若下次實(shí)驗換另外的源，則需排空，具體操作：點(diǎn)擊“泵閥開(kāi)”，氣壓下降后，點(diǎn)擊“進(jìn)氣”，點(diǎn)擊“模式1”，將前驅體3的脈沖時(shí)間設為：500ms，清洗時(shí)間設為：5s，將前驅體4的脈沖時(shí)間設為：1000ms，清洗時(shí)間設為：10s，關(guān)閉小窗，點(diǎn)擊“開(kāi)始”，100個(gè)循環(huán)后，點(diǎn)擊“結束”，排空完成。)
 

　　11、關(guān)儀器：點(diǎn)擊“設置”，將1、2和11(水)的溫度設為：0，將所用源的溫度設為：0。點(diǎn)擊“泵閥關(guān)”，關(guān)機械泵，關(guān)總電源，關(guān)普氮、關(guān)水冷。